日本產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合研究所（產(chǎn)綜研）近日宣布，通過把納米壓印與絲網(wǎng)印刷融合到一起，開發(fā)出了能夠利用與過去一樣的印刷原版，使線條粗細(xì)縮小到原版圖案1/30以下的超微細(xì)印刷技術(shù)。
該技術(shù)首先通過納米壓印成型，在薄膜表面形成從納米到微米不等的凹凸結(jié)構(gòu)。在擁有凹凸結(jié)構(gòu)的薄膜上進(jìn)行絲網(wǎng)印刷后，借助毛細(xì)管作用，可以在凹凸的微小間隙中填充功能性墨水。因?yàn)椴恍枰襁^去的技術(shù)那樣對(duì)原版圖案的開口部進(jìn)行微細(xì)化，所以不會(huì)發(fā)生墨水堵塞的問題，有助于提高量產(chǎn)效率。
使用過去的印刷技術(shù)（原版開口寬度為200μm）制作的導(dǎo)電膜的光（波長550納米）透射率為43%。而使用此次新開發(fā)的技術(shù)，可印刷線寬為3μm的超微細(xì)布線，導(dǎo)電膜的透射率達(dá)到了90%。在印刷之前，薄膜本身的透射率為91%，布線對(duì)于透射率的影響微乎其微。
另外，使用過去的印刷技術(shù)時(shí)，如果微細(xì)化程度增加，布線的高度會(huì)降低，導(dǎo)致薄膜電阻增大。而此次開發(fā)的新技術(shù)將墨水封閉在了凹凸結(jié)構(gòu)的微小縫隙內(nèi)，即使布線微細(xì)化，也可以維持原來的高度，從而抑制薄膜電阻增大。
這項(xiàng)技術(shù)可以用來印刷高密度的微細(xì)布線，理論上可以印刷0.1μm以下的微細(xì)圖案。通過結(jié)合薄膜嵌入成型技術(shù)，還可以在曲面印刷圖案。而且有望通過非常微細(xì)的印刷圖案提高墨水的顯色性能等。（來源：日經(jīng)技術(shù)在線 撰稿：工藤宗介）
